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在技術與結構設計上，Hydrogen - 500（S）氣相色譜專用氫氣發生器采用 SPE 固態電解質技術，無需使用堿，直接電解純水，這種創新設計對色譜柱起到了有效的保護作用。

HYDROGEN-2L/3L氣相色譜專用氫氣發生器是一種能夠連續可靠地產生高純度氫氣的設備，其純度可達到99.9999%以上。相比昂貴的高壓氫氣鋼瓶，該設備具有更高的安全性和經濟性，不再需要更換鋼瓶，從而避免了中斷重要分析工作的情況。

HYDROGEN/5L/10L/17L氫氣發生器是由超純水機制取二級水，并儲存至水箱備用的設備。當氫氣發生器缺水時，它會自動供給水。此外，多臺氫氣發生器還可以串聯使用，通過串聯控制線由一臺發生器控制其他發生器，實現產氣均勻分配。

在控制方面，該氫氣發生器展現出高度的智能化。儀器的全部工作過程均由程序精確控制，能夠自動實現恒壓、恒流功能。更為出色的是，通過串聯控制線，它可輕松實現多組并聯使用，極大地拓展了設備的使用靈活性和應用范圍，滿足不同規模的生產或實驗需求。

功能方面，高壓氫氣發生器具有自動水位控制功能，當缺水狀態時，自動停機，自動補水功能，水量低于15%時，由外置水箱自動補水，無需停機加水。有效保護電解池，延長使用壽命。

CVD（Chemical Vapor Deposition）和MOCVD（Metal-Organic Chemical Vapor Deposition）是兩種常用的化學氣相沉積技術，用于制備薄膜、涂層和納米材料等。