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2020-73
半導體制造技術作為信息時代制造的基礎，堪比工業時代的機床，是整個社會發展的基石和原動力。在產業分工格局重塑的關鍵時期，我國也提出了《中國制造2025》，以通過智能制造實現由制造大國向制造強國的轉換，智能制造(工業4.0)的實現，以各種信息器件的使用為基礎，半導體制造技術正是其制造的核心技術。而氫氣作為半導體制造中的氣源，在半導體材料及器件制備中起到至關重要的作用。可在光電器件、傳感器、IC制造中應用。目前半導體工藝中氫氣主要用于退火、外延生長、干法刻蝕等工藝，其中：退火是通過...
查看更多2020-62
大流量氫氣發生器是一種能夠高效產生大量氫氣的設備，其技術特性和廣泛應用使其成為多個領域的重要工具。以下是對大流量氫氣發生器的詳細概述：一、定義與特點大流量氫氣發生器，顧名思義，是指能夠產生較大流量氫氣的設備。這類設備通常采用電解水的方法制造氫氣，具有產量大、自動化程度高、安全可靠、環保節能等特點。它們能夠持續穩定地提供高純度的氫氣，滿足各種高需求的應用場合。二、工作原理大流量氫氣發生器的工作原理基于電解水的化學反應。在電解池中，通過加入強電解質（如氫氧化鉀或氫氧化鈉）作為電解...
查看更多2020-527
氣相色譜專用氫氣發生器由南京普拉勒科技有限公司供應，該公司具有良好的市場信譽，擁有專業的售后和技術服務團隊，憑借多年不斷技術創新，贏得了客戶的認可。氣相色譜專用氫氣發生器工作原理介紹：1.電解水：通常采用電解水的方法產生氫氣，這一過程中產生的氫氣純度高，但能耗較大。在實驗室中，常用的是堿性電解槽和聚合物薄膜電解槽制氫技術。電解槽填充時，需在其中加入去離子水，并添加適量的電解質(通常是氫氧化鉀或氫氧化鈉溶液)，以增加水的電導性，促進電解過程。當在電解槽兩端施加直流電壓時，水分子...
查看更多2020-526
普拉勒金剛石MPCVD氫氣發生器介紹一、產品概述普拉勒金剛石MPCVD氫氣發生器是一款專為金剛石薄膜制備設計的先進設備，采用微波等離子體化學氣相沉積（MPCVD）技術，結合高效氫氣生成系統，為金剛石生長提供穩定、純凈的氫氣環境。該設備廣泛應用于半導體、光學、機械加工等領域，是高性能金剛石薄膜制備的理想選擇。二、核心特點1.高效氫氣生成1）采用先進的電解水技術，高效生成高純度氫氣（純度≥99.999%），滿足金剛石薄膜制備的嚴格要求。2）氫氣產量穩定，可根據實驗需求靈活調節，確...
查看更多2020-57
引言隨著科技的不斷進步，半導體行業已成為現代社會的重要支柱之一。在半導體制造過程中，氫氣作為一種重要的原料氣體，被廣泛應用于晶體生長、薄膜沉積、蝕刻和清洗等環節。為了確保這些過程的高效和穩定，半導體專用的氫氣發生器在實驗室中扮演著至關重要的角色。氫氣在半導體制造中的作用氫氣在半導體制造中的應用主要包括：1.晶體生長：在生產硅晶體或其他半導體晶體時，氫氣用于提供一個還原性的環境，防止材料氧化。2.化學氣相沉積（CVD）：在CVD過程中，氫氣作為載氣幫助輸送反應氣體至襯底表面，促...
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